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10t/hRO+EDI設(shè)備

10t/hRO+EDI設(shè)備

 

1)EDI(Electro-de-ionization)是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造技術(shù)。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來(lái)克服電滲析極化而脫鹽不徹底,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H和OH離子實(shí)現(xiàn)樹(shù)脂自再生來(lái)克服樹(shù)脂失效后通過(guò)化學(xué)藥劑再生的缺陷,是20世紀(jì)80年代以來(lái)逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過(guò)十幾年的發(fā)展,EDI技術(shù)已經(jīng)在北美及歐洲占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場(chǎng)。EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(RO)配合使用,,組成預(yù)處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng),,取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。EDI裝置進(jìn)水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ·cm,反滲透裝置完全可以滿足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達(dá)18MΩ·cm以上的超純水
2工作原理
一般自然水源中都會(huì)存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負(fù)電荷的陰離子和帶正電荷的陽(yáng)離子組成。通過(guò)反滲透預(yù)處理,有95%-99%以上的離子可以被去除。反滲透產(chǎn)水的電阻率一般范圍是0.05-1.0M?·cm,即反滲透產(chǎn)水電導(dǎo)率的一般范圍為20-1µS/cm。根據(jù)在實(shí)際應(yīng)用的情況,EDI電去離子產(chǎn)品水電阻率的范圍一般為5~18.2 MΩ·cm。另外,原水中也可能包括其它微量元素、溶解的氣體(如CO2)和一些弱電解質(zhì)(如硼、二氧化硅等),這些雜質(zhì)在工業(yè)除鹽水中必須被除掉。但是反滲透預(yù)處理對(duì)于這些雜質(zhì)的清除效果較差。因此,EDI的作用就是除去電解質(zhì)(包括弱電介質(zhì)),將水的電阻率從0.05~1.MΩ·cm提高到5~18.2 MΩ·cm。
3EDI設(shè)備優(yōu)點(diǎn)
   A、無(wú)需酸堿再生,無(wú)化學(xué)藥劑使用,無(wú)酸堿廢水排放,生產(chǎn)過(guò)程無(wú)任何污染,屬清潔生產(chǎn);
   B無(wú)需停機(jī)再生,連續(xù)生產(chǎn)水質(zhì)穩(wěn)定的高純水;
   C運(yùn)行穩(wěn)定可靠,降低運(yùn)行和維修費(fèi)用
   D、無(wú)需派專(zhuān)門(mén)人員看守,易于實(shí)現(xiàn)設(shè)備自動(dòng)化控制;
   E、設(shè)備占地面積小,減少車(chē)間建設(shè)面積,節(jié)約場(chǎng)地建設(shè)費(fèi)用投資。
   F、控制系統(tǒng)可根據(jù)用戶具體使用要求進(jìn)行個(gè)性化設(shè)計(jì),結(jié)合優(yōu)秀的控制軟件,現(xiàn)場(chǎng)在線集中監(jiān)控重要工藝操作參數(shù),避免人工誤操作,多方位確保系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。
4)基本型EDI設(shè)備配置
EDI增壓泵一臺(tái);
EDI穩(wěn)壓穩(wěn)流電源一臺(tái);
泵后止回閥一個(gè);
進(jìn)水合格/不合格三通閥一個(gè);
進(jìn)水低壓保護(hù)開(kāi)關(guān);
EDI產(chǎn)水電阻率儀一臺(tái);
EDI濃水電導(dǎo)率儀一臺(tái);
EDI進(jìn)水壓力表一個(gè);
EDI產(chǎn)水壓力表一個(gè);
EDI濃水壓力表一個(gè);
EDI進(jìn)水流量計(jì)一個(gè);
EDI產(chǎn)水流量計(jì)一個(gè);
EDI濃水流量計(jì)一個(gè);
碳鋼噴漆半封閉式機(jī)架一臺(tái)。
5)使用條件
   在一級(jí)/二級(jí)反滲透純水條件下,其產(chǎn)水水質(zhì)可達(dá)到實(shí)驗(yàn)室分析I級(jí)用超純水標(biāo)準(zhǔn)。
6)應(yīng)用領(lǐng)域
A、制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。
B、在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。
C、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;
D、超純材料和超純化學(xué)試劑;
E、實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間;
F、汽車(chē)、家電表面拋光處理;
G、光電產(chǎn)品;
H、其他高科技精微產(chǎn)品
6EDI設(shè)備安裝要求

(1)無(wú)須專(zhuān)做安裝基礎(chǔ),地基堅(jiān)實(shí)水平即可
(2)入水水壓如低于0.2 Mpa需加裝管道泵
(3)使用前需先沖洗管道,避免雜質(zhì)堵塞閥體,污染樹(shù)脂
(4)不可用加碘鹽、加鈣鹽作再生劑,定期向鹽罐加鹽,確保鹽水飽和濃度(應(yīng)保證溶解時(shí)間 不小于六小時(shí))。

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